Резидент ОЭЗ «Технополис Москва» займется разработкой специальных материалов для микроэлектроники

Фоторезист – это светочувствительный полимерный материал, который наносят на кремниевую пластину в ходе процесса фотолитографии. С его помощью на поверхности обрабатываемой детали формируются выделенные участки – «окна» – для дальнейшего травления или легирования поверхности. Эта технология является основной в производстве интегральных микросхем.

Как отметил заместитель руководителя приоритетного технологического направления «Электронные технологии» компании, член-корреспондент РАН Евгений Горнев, у института накоплен большой опыт исследований в области высокочистых материалов. В консорциуме с институтами Российской академии наук по программе импортозамещения резидент ОЭЗ Москвы занимается разработками и анализом высокочистых химических реактивов для отечественной промышленности. За последние пять лет были сформированы технологические цепочки исполнителей из научных организаций и организовано проведение работ по созданию задела для разработки материалов для фотолитографии, а в 2021 году создана единственная в России физико-химическая аналитическая лаборатория мирового уровня для проведения исследований в области контроля качества технологических сред. Сегодня лаборатория участвует во всех опытно-конструкторских работах по созданию химреактивов требуемого качества и методик анализа соответствия качества высокочистых материалов.